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其它產(chǎn)品及廠家

HMDS鍍膜烤箱，HMDS真空鍍膜系統(tǒng)

hmds鍍膜烤箱，hmds真空鍍膜系統(tǒng)預(yù)處理性能更好，更加均勻；效率高,一次可以處理多達(dá)4盒的晶片；更加節(jié)省藥液；低液報(bào)警、防藥液泄漏等具有很強(qiáng)的安全保護(hù)功能；，有可自動(dòng)吸取添加hmds功能，智能型的程式設(shè)定，一鍵完成作業(yè)。

更新時(shí)間:2025-05-07

該公司產(chǎn)品分類：上海雋思實(shí)驗(yàn)儀器有限公司

無氧烤箱，氮?dú)饪鞠?/a>

無氧烤箱，氮?dú)饪鞠涔ぷ魇覂?nèi)充滿了惰性氣體n2,防止材料在烘烤時(shí)被氧化。無氧烤箱箱主要用于：ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板等電子、ic、醫(yī)療衛(wèi)生、儀器儀表、工廠、高等院校、科研等部門。

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高溫?zé)o氧化烤箱，半導(dǎo)體制程烤箱

高溫?zé)o氧化烤箱，半導(dǎo)體制程烤箱用于pi、bcb膠高溫固化烘烤。整個(gè)箱體結(jié)構(gòu)分為：膛體組件、箱架組件和熱風(fēng)組件三個(gè)部分，膛體腔，內(nèi)表面全鏡面設(shè)計(jì)，風(fēng)道由左、右、后導(dǎo)風(fēng)板與箱體內(nèi)壁組合而成，膛體頂部有排風(fēng)管道。

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蒸汽老化試驗(yàn)機(jī)，半導(dǎo)體蒸汽老化測試儀

蒸汽老化試驗(yàn)機(jī)，半導(dǎo)體蒸汽老化測試儀適用于電子連接器、半導(dǎo)體ic、晶體管、二極管、液晶lcd、芯片電阻電容、零組件產(chǎn)業(yè)電子零組件金屬接腳沾錫性試驗(yàn)前的老化加速壽命時(shí)間試驗(yàn);半導(dǎo)體、被動(dòng)組件、零件接腳氧化試驗(yàn)。

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PCT高壓老化試驗(yàn)機(jī)，半導(dǎo)體高壓加速老化試驗(yàn)箱

pct高壓老化試驗(yàn)機(jī)，半導(dǎo)體高壓加速老化試驗(yàn)箱是利用加壓的飽和蒸汽對產(chǎn)品進(jìn)行加速老化的設(shè)備，適用于電子，表面處理，磁性材料，ic，半導(dǎo)體，pcb，包裝材料等各個(gè)相關(guān)行業(yè)使用。

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IC氮?dú)饪鞠洌饪涕g用烤箱

ic氮?dú)饪鞠洌饪涕g用烤箱工作室內(nèi)充滿了惰性氣體n2,防止材料在烘烤時(shí)被氧化。無氧烤箱箱主要用于：ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板等電子、ic、醫(yī)療衛(wèi)生、儀器儀表、工廠、高等院校、科研等部門。

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led專用烤箱，led光電烤箱四門精密烤箱采用獨(dú)特的結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，外形美觀，內(nèi)部結(jié)構(gòu)合理。外殼采用1.5mm厚冷軋鋼板折彎而成，表面高溫噴塑烤漆處理（環(huán)保戶外粉），耐腐蝕，防生銹，烤箱上下平均分成四層，每層配有獨(dú)立打開的小門，每層烤箱門板上裝有壹個(gè)拉手，方便每層托盤可獨(dú)立拿出，門邊四條，使?fàn)t外溫度不燙手。

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PI膠高溫固化烤箱，半導(dǎo)體PI固化爐

pi膠高溫固化烤箱，半導(dǎo)體pi固化爐用于pi高溫固化烘烤。廣泛應(yīng)用于微電子工業(yè)中的半導(dǎo)體器件表面的保護(hù)、密封、應(yīng)力緩沖保護(hù)和半導(dǎo)體器件表面鈍化、內(nèi)涂料、層間絕緣和介電薄膜材料以及液晶顯示器的液晶分子取向膜材料，對改善器件性能、提高器件可靠性，具有防潮、防金屬離子遷移、防污染，降低漏電流，同時(shí)對器件的引線、焊點(diǎn)等薄弱部位具有增固加強(qiáng)的作用。所以，pi的固化工藝非常重要。

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LED氣相成底膜處理系統(tǒng)，氣相成底膜真空烘箱

led氣相成底膜處理系統(tǒng)，氣相成底膜真空烘箱目前在led芯片制造中用hmds成膜處理一般是在一個(gè)集脫水烘焙和氣相成膜兩種作用的真空腔中進(jìn)行,這種方法可以實(shí)現(xiàn)批量處理。待處理晶片放在真空腔中的熱板上,用氮?dú)庾鳛檩d氣將hmds蒸氣通入腔室中,達(dá)到預(yù)先設(shè)定的壓力對晶片進(jìn)行成膜處理,完畢后將腔室中的氣體抽空,然后通氮?dú)獾匠骸s-hmds預(yù)處理系統(tǒng)對預(yù)處理過程的工作溫度、工作真空度、處理時(shí)間、處理時(shí)

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silicon wafer HMDS烤箱，HMDS OVEN

silicon wafer hmds烤箱，hmds oven通過對烘箱預(yù)處理過程的工作溫度、處理時(shí)間、處理時(shí)保持時(shí)間等參數(shù)可以在硅片、基片表面均勻涂布一層hmds，降低了hmds處理后的硅片接觸角，降低了光刻膠的用量，提高光刻膠與硅片的黏附性。

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HMDS pretreatment system, HMDS oven

hmds pretreatment system, hmds oven reducing the contact angle of the silicon wafer after hmds treatment the amount of photoresist to improve the adhesion of photoresist and silicon.

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晶圓烤箱，超潔凈烤箱

晶圓烤箱，超潔凈烤箱工作室內(nèi)充滿了惰性氣體n2,防止材料在烘烤時(shí)被氧化。無氧烤箱主要用于：ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板等電子、ic、醫(yī)療衛(wèi)生、儀器儀表、工廠、高等院校、科研等部門。

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軟烘烤箱，硅片烤箱

軟烘烤箱，硅片烤箱工作室內(nèi)充滿了惰性氣體n2,防止材料在烘烤時(shí)被氧化。無氧烤箱主要用于：晶圓、硅片、玻璃等制程烘烤，ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板等電子、ic、醫(yī)療衛(wèi)生、儀器儀表、工廠、高等院校、科研等部門。

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硅片HMDS涂布機(jī)臺(tái)，4寸Wafer hmds烤箱

在半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝中，光刻是集成電路圖形轉(zhuǎn)移重要的一個(gè)工藝環(huán)節(jié)，涂膠質(zhì)量直接影響到光刻的質(zhì)量，涂膠工藝也顯得尤為重要。光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的，而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的，這造成光刻膠和硅片的黏合性較差，尤其是正膠，顯影時(shí)顯影液會(huì) 侵入光刻膠和硅片的連接處，容易造成漂條、浮膠等，導(dǎo)致光刻圖形轉(zhuǎn)移的失敗，同時(shí)濕法腐蝕容易發(fā)生側(cè)向腐蝕。

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芯片無氧烘箱，可編程無氧烤箱

芯片無氧烘箱，可編程無氧烤箱：在工作時(shí)，工作室內(nèi)充滿了惰性氣體co2,n2,防止材料在烘烤時(shí)被氧化。無氧化烘箱在工業(yè)中的用途：ic包裝，lcd,晶體管，傳感器，二極管，石英晶體振蕩器，混合集成電路板……

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