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燃燒爐產品及廠家

小型1000℃RTP爐OTF-1200X-4-RTP
小型1000℃rtp爐otf-1200x-4-rtp 是一款精巧型快速熱處理管式爐，配有4"石英管和真空法蘭，是專為半導體或太陽能電池基片（最大3"）的退火而設計。本機采用10kw紅外燈管加熱，最快升溫速度為 50℃/s，設有30段溫度控制，精度為±1℃。此外，通過rs485口和控制軟件可在計算機上實現實時控制和溫度曲線顯示。
更新時間:2025-05-14
可滑動RTP爐OTF-1200X-4-RTP-SL
0x-4-rtp-sl是一種快速熱處理爐，采用紅外燈加熱和移動爐體快速冷卻，可獲得最高升溫速率為100°c/s 、降溫速率為5°c/s。
更新時間:2025-05-14
MSM20-8（非自耗式）微型金屬熔煉吸鑄爐
產品簡介：msm20-8（非自耗式）微型金屬熔煉吸鑄爐是一款小型的電弧熔煉爐，可在不破壞氣體保護氣氛的條件下翻轉合金錠進行多次熔煉，且可以同時制備多個樣品（少于7個），是高等院校、科研院所制備
更新時間:2025-05-14
1100℃高壓爐OTF-1200X-60UV
1100℃高壓爐otf-1200x-hp-55是開啟式高溫高壓管式爐，爐管采用 ss310s鎳基合金鋼制作而成，最高壓力高達20mpa，最高溫度可達1100℃，并可通入多種氧化或惰性保護氣體，是用于高壓制備新材料，以及作為小型熱等靜壓處理合金樣品的理想設備。
更新時間:2025-05-14
800℃雙溫區高壓爐OTF-1200X-II-HVHP-80
800℃雙溫區高壓爐otf-1200x-ii-hvhp-80是高溫高壓管式爐，爐管采用 ss310s鎳基合金鋼制作而成，兩端配有法蘭和閥門，專為在105 psi高壓下使用，可在通入氧化或惰性氣體的氣氛下，處理特殊的化合物。本機采用pid方式進行控
更新時間:2025-05-14
800℃高壓爐OTF-1200X-HVHP-80
800℃高壓爐otf-1200x-hvhp-80是高溫高壓管式爐，爐管采用 ss310s鎳基合金鋼制作而成，兩端配有法蘭和閥門，專為在105 psi高壓下使用，可在通入氧化或惰性氣體的氣氛下，處理特殊的化合物。
更新時間:2025-05-14
生長納米線CVD爐OTF-1200X-4-NW
生長納米線cvd爐otf-1200x-4-nw是一種緊湊型cvd爐，專為生長各種納米線而設計，基片最大3″。在法蘭的左側裝有一個小加熱器，可對輸入的氣體、液體、固體進行預加熱后進入 cvd 爐進行納米線的生長。其可滑動的樣品架使操作更為簡單。
更新時間:2025-05-14
1200℃雙管三溫區管式OTF-1200X-III-D5-4
200℃雙管三溫區管式爐（石墨烯生長）otf-1200x-iii-d5-4最高工作溫度可以達到1200℃，專門針對于用cvd方法在金屬箔上生長薄膜物質，如石墨烯、太陽能電池的電極材料和其他電池電極材料等。
更新時間:2025-05-14
布里奇曼單晶生長爐
布里奇曼單晶生長爐
更新時間:2025-05-14
1400℃小型管式爐GSL-1400X
400℃小型管式爐gsl-1400x是小型高溫管式爐，采用高純氧化鋁剛玉爐管和硅碳棒加熱元件，設有兩個真密封法蘭，控制系統采用高精度可控硅移相觸發控制，其控溫精度為±1℃，可設置30段升降溫程序，最高溫度可達1400℃。
更新時間:2025-05-14
1600℃雙溫區高溫真空管式爐GSL-1600X-Ⅱ
1600℃雙溫區高溫真空管式爐gsl-1600x-ⅱ每個加熱區域長300mm，由30段智能溫度調節儀進行控溫，采用硅鉬棒加熱元件溫度可達1600℃，采用硅碳棒加熱元件溫度可達1400℃，通過調節兩個溫區的控溫程序使爐管內溫度場形成一溫度梯度。本機可用于cvd或pvd方法來生長納米材料和制作各種薄膜。控溫儀表操作視頻
更新時間:2025-05-14
1500℃真空立式淬火爐OTF-1500X-80-VTQ
1500℃真空立式淬火爐otf-1500x-80-vtq一款是立式可開啟真空管式淬火爐，配有一個密封的液體容器用于樣品淬火，樣品可從最高溫度1500℃環境中快速落入冰水或冷油中，可用于研究材料相轉變和微結構性能。
更新時間:2025-05-14
1200℃五溫區開啟式管式爐OTF-1200X-V
1200℃五溫區開啟式管式爐otf-1200x-v每個溫區分別由獨立的溫控系統控制，通過調節各個溫區的溫度，可以在加熱區內形成四段溫度梯度，或形成較長的恒溫區域。本機用于高等院校、科研院所、工礦企業等實驗或小批量生產，主要針對電子陶瓷的預燒、燒結、鍍膜、高溫熱解低溫沉積（cvd）等工藝。具有控溫精度高，保溫效果好，溫度范圍大，溫度均勻性高，溫區多，可通氣氛抽真空及安全可靠、操作簡單等特點。
更新時間:2025-05-14
1200℃三溫區開啟式管式爐OTF-1200X-Ⅲ
1200℃三溫區開啟式管式爐otf-1200x-ⅲ每個溫區分別由獨立的溫控系統控制，具有控溫精度高，保溫效果好，溫度范圍大，溫度均勻性高，溫區多等特點。本機可通氣氛抽真空，操作簡單，安全可靠。
更新時間:2025-05-14
1200℃小型8通道管式爐（高通量燒結）
產品簡介：gsl-1200x-mgi-8是一款1200℃小型8通道管式爐，其爐管直徑為20mm，可用于高通量燒結，最高溫度可達1200℃。每個加熱模塊都由獨立的溫控系統控制，每個爐管采用真空法蘭密封，可同時放入8個樣品，在真空或
更新時間:2025-05-14
OTF-1200X-S-DVD小型坩堝移動管式爐
產品簡介：otf-1200x-s-dvd是一款小型坩堝移動管式爐（通過磁鐵推動坩堝移動），其爐管直徑為50mm,爐體工作溫度為≤1200℃，此款設備設計針對于直接蒸發沉積或快速熱處理實驗，用于二維材料的生長。
更新時間:2025-05-14

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