涂膠顯影設備產品及廠家
最適合厭氧性液體等低粘度，快干型膠水的微量吐出。具有手動/自動定時器調節點膠量功能，操作簡便。
更新時間:2025-04-30
應用行業：應用于電子行業pcb電子零配件固定及保護、手機、筆記本外殼粘接、lcd玻璃、led點膠、光學鏡頭點膠與封裝、汽車零配件、五金零部件實現粘接固定作用。
更新時間:2025-04-30
表面疏水處理設備 材料超疏水性處理系統 自動化hmds預處理機是一種改善物體表面性質的技術，使其具有疏水性，即不易被液體濕潤。通過表面疏水處理，物體表面會形成一層特殊的涂層或納米結構，使液體在接觸物體表面時形成球狀滾落，減少與物體表面的接觸面積，從而達到減少粘附、抗污染、抗腐蝕等目的。
更新時間:2025-04-29
上海祥樹歐茂機電設備有限公司成立于1999年，經過多年的努力與良好的信譽度，公司與國際機電行業品牌twk、mts、hydac、masterk、weber、radio-energie、lenord bauer、elcis、ipf、hemomatik等千余家品牌廠商密切合作，形成了個穩定而高效的全球化國際供應鏈體系，竭盡全力為客戶提供服務。
更新時間:2025-04-09
西班牙intecprocess， 是一家設計和配置聚氨酯、環氧樹脂、硅樹脂和其他類型的膠粘劑和粘合劑 1k 或 2k 的設備和系統的公司。產品用于手動或自動工業過程，為客戶提供自動應用系統和 2 組分產品混合配料方面的新方案。
更新時間:2025-03-05
鈣鈦礦用涂膜機，配備4.3寸全彩觸屏，操作便捷。采用硬質陽氧化鋁面板，帶真空吸附，確保涂膜穩定。精準控制移動速率，提高涂膜重復性?？蛇x配多種涂膜工具，適應不同需求。風刀角度與高度可調，工藝靈活。是高效、精密的涂膜解決方案。
更新時間:2025-03-05
鈣鈦礦用涂膜機，配備4.3寸全彩觸屏，操作便捷。采用硬質陽氧化鋁面板，帶真空吸附，確保涂膜穩定。精準控制移動速率，提高涂膜重復性?？蛇x配多種涂膜工具，適應不同需求。風刀角度與高度可調，工藝靈活。是高效、精密的涂膜解決方案。
更新時間:2025-03-05
ks-ft200/300系列堆疊式高產能道涂膠顯影機，為我司自主研發的突破晶圓道28nm工藝節點及以上工藝制程，適用于arf、krf、i-line、pi、barc，soc，sod，sog等多種材料涂覆顯影工藝的機臺。支持與光刻機聯機作業。該系列機臺通過各種行業認證，占地面積小、可靠性高、易于維護，滿足各種功能芯片制程需求。
更新時間:2025-03-05
ks-s150星型全自動涂膠顯影機用于led-pss工藝的涂膠顯影制程及化合物半導體的涂膠顯影等制程。可兼容藍寶石、砷化鎵和碳化硅等材質的晶圓，產品涉及多個應用域，涂膠機產能大于190片/小時。設備通過了csa認證。
更新時間:2025-03-05
ks-m300半自動機臺可用于單片晶片涂膠、顯影、噴膠、清洗、刻蝕、去膠工藝及掩膜板涂膠、顯影、清洗工藝。適用于小批量生產的工藝試驗和生產線。占地面積小，操作時手動上下片，工藝過程可自動完成。
更新時間:2025-03-05
ks-s300全自動噴霧式涂膠機通過超聲波將光阻霧化為微小顆粒，適用于在大深寬比的圖形表面以高分辨率均勻地涂敷光刻膠，可以有效覆蓋溝槽的側壁和邊緣，避免溝槽堆積，節省光刻膠；同時針對輕薄易碎的襯底，承片臺靜態噴霧式涂膠可以避免襯底在高速旋轉時碎裂的風險。產品可應用于封裝、微機電系統制造等域。該產品已通過semi s2認證。
更新時間:2025-03-05
ks-c300涂膠顯影機可用于封裝、 mems、oled等域的涂覆顯影制程，每小時可加工180片晶片，同時產品可兼容不同材質的晶片如硅、玻璃片、鍵合片、化合物等。產品可應用于邏輯類、存儲類芯片、攝像頭芯片、功率器件芯片、oled制造等域。國產化集成電路設備的成功應用為客戶節約了大量成本。產品通過semi s2認證。
更新時間:2025-03-05
清洗機可以用于對晶圓表面，背面及晶圓邊緣的清洗，通過創新研發的二流體噴嘴技術可將附著在晶圓表面的細微顆粒污染物去除，實現高效去除。通過大量仿真與工藝試驗相結合，優化出佳的清洗工藝參數，確保不損傷晶圓表面的圖形；對于微米別大顆粒，采用特殊材料的毛刷或高壓噴淋對晶圓進行擦洗去除。配合晶圓翻轉裝置和夾持式承片臺，可在同一臺設備中實現對晶圓的正反兩面進行清洗。
更新時間:2025-03-05
ks-cm300/200 單片式化學清洗機適用于沉積清洗、蝕刻后清洗、離子注入后清洗、cmp后清洗等多種段工藝（feol）和后段工藝（beol）清洗進程，可適配高溫spm工藝，工藝覆蓋率達80%以上；搭載獨立開發的新一代高清洗效率低損傷射流噴嘴，潔凈度達到先進制程所需水平。
更新時間:2025-03-05
用于晶圓封裝及oled中的清洗工藝，配合清洗化學藥液、高壓水清洗、常壓水清洗、兆聲波清洗、二流體水清洗、毛刷和噴灑清洗劑等手段，可有效去除晶圓表面顆粒、有機物、金屬離子等雜質，同時適用于tsv后深孔內含氟聚合物的清洗。
更新時間:2025-03-05
適用尺寸：用于4~6寸圓片顯影，涂膠。采用plc控制方式，性能更穩定，故障率只有原機型的10%，維修更方便；增加了手動功能，可以單步偵測每個單元的動作。人機界面采用觸摸屏，全中文界面，友好，易學，小學文化簡單培訓就可以上機操作。主體電機采用飼服和步進，穩定可靠，減少備件消耗，不產生顆粒。
更新時間:2024-11-12
pcd 3012b 是一款五段低 pcd 3012b 是一款五段低 thd 、高功率因數 led 線性恒流控制芯片，芯片集成了 700v 高壓 mosfet ，采用獨特創新的器件工藝技術，具有優越的抗雪崩擊穿及浪涌能力，在無保護器件時可通過650v 雷擊浪涌測試，內置過溫保護功能，提升系統應用可靠性。可通過調節rext 電阻值對輸出電流進行調節。同時pcd3012b 集成了輸入線電壓補償功能， 在
更新時間:2024-05-23
本機采用plc控制，性能更穩定，故障率低，維修更方便；增加了手動功能，可以單步偵測每個單元的動作。人機界面采用觸摸屏， 全中文界面，友好，易學，簡單培訓就可以上機操作。主體電機采用飼服和步進，穩定可靠，不產生顆粒。噴頭采用雙流體實心錐噴頭，高效省液。液盤采用ptfe底座和不銹鋼外殼，不會變形，易清理。
更新時間:2024-01-24
laurell勻膠旋涂儀 ws-650mz-23nppb 技術參數：（1）腔體尺寸：9.5英寸 (241 毫米)；（2）wafer芯片尺寸：10-150mm直徑圓片，方片125x125mm；（3）轉動速度：100-12,000rpm；（4）旋涂加速度：1-12000rpm/sec（空載）；（5）馬達旋涂轉速：穩定性能誤差<± 1 %；
更新時間:2023-08-03
濕法刻蝕處理系統又稱自動顯影系統、自動刻蝕系統、自動去離子水清洗系統、顯影刻蝕系統、勻膠顯影機、自動刻蝕機、顯影刻蝕機、顯影臺、濕法刻蝕臺、顯影刻蝕臺等。polos advanced系列濕法處理系統可實現涂膠、刻蝕、顯影、清洗等多種工藝，適用于半導體、化工材料、硅片、導電玻璃等制版的表面顯影。
更新時間:2023-08-03
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