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QLC-5000全自動在線電鍍藥液分析系統(tǒng)

全自動在線電鍍藥液分析系統(tǒng)，可同時進行在線濃度分析及自動添加。

Cmi900電鍍測厚儀

電鍍層測厚儀CMI900可無損地測量磁性金屬基體（如鋼、鐵、合金和硬磁性鋼等）上非磁性覆蓋層的厚度 （ 如鉻、銅、琺瑯、橡膠、油漆等 ） 及非磁性金屬基體 （ 如銅、鋅、錫等 ） 上非導電覆蓋層的厚度 （ 如 : 琺瑯、橡膠、油漆、塑料等 ） 。本儀器具有測量誤差小、性高、穩(wěn)定性好、操作簡便等特點，是控制和產(chǎn)品質量必不可少的檢測儀器，廣泛地應用在制造業(yè)、金屬加工業(yè)、化工業(yè)、商檢等檢測領域電鍍層測厚儀CMI900注意事項   A、工作電源要求：CMI900必須工作于穩(wěn)定工作電壓狀態(tài)之下，必須對CMI900配置UPS后備電源，防止突然斷電引起儀器損壞。UPS后備電源功率大約在1000W~2000W之間即可。B、環(huán)境要求：CMI900是高科技精密測量儀器，對環(huán)境的要求特別高，環(huán)境的變化會直接影響測量精度、儀器穩(wěn)定性、會導致儀器出現(xiàn)性能問題及影響儀器的使用壽命。下面是實驗室環(huán)境條件基本要求：□實驗室的標準溫度為20℃,一般檢測間及試驗間的溫度應在20±5℃， 線值計量標準間為20±2℃，電工        與無線電專業(yè)的標準間和線值計量的計量檢測儀器間為20±3℃。□實驗室內(nèi)的相對濕度一般應保持在50－70％。 □實驗室的噪音、防震、防塵、防腐蝕、防磁與屏蔽等方面的環(huán)境條件應符合在室內(nèi)開展的檢定項目的檢測                    儀器設備對環(huán)境條件的要求，室內(nèi)采光應利于檢定工作和計量檢測工作的進行。 □ 實驗室的環(huán)境條件出現(xiàn)異常，例如溫度和濕度超過規(guī)定范圍且明顯影響檢定或檢測結果時或當環(huán)境條件經(jīng)常出現(xiàn)異常情況，采取適當措施給予解決。我司是牛津儀器總代理商，從事與儀器相關服務已經(jīng)十多年，擁有技術過硬的技術工程師以及的銷售團隊，可為你解決涵蓋CMI900儀器、CMI700等牛津儀器相關問題，也可以提供最詳細的CMI900、CMI700相關技術資料。 

該公司產(chǎn)品分類： 耗材產(chǎn)品 鋰電檢測設備 PCB檢測儀器

HQT-IA微電腦多功能電解測厚儀，電鍍層測厚儀

特點簡介：采用MCS-51系列高性能單片微處理器，自動采集、計算 并顯示結果，采用四位LED顯示。如配用微型打印機，可 自動打印測量結果。與PC電腦連接，電腦可控制測量 過程，顯示并可儲存測量曲線及結果，由通用打印機打印 測量報告。               臺灣技術 專業(yè)制造
    產(chǎn)品說明
測量對象： 單金屬鍍層：（Cu Zn、Ni、Ag、Sn、Cr等） 合金鍍層（Pb-Sn、Cr-Zn、Zn-Ni、Ni-P等）； 復合鍍層（Cu+Ni+Cr/Fe等）； 多線鍍層（需配用電位記錄儀，如與PC電腦連接則不需記錄儀）；

詳細說明：

測量品種：銅、鎳、鉻、鋅、鎘、銀、金、多層鎳各層厚度及層間電位差。　　測量范圍：0.03μm～99.99μm 度：±10%　　復現(xiàn)精度：<5% 　　電位測量范圍：－100mv～+400mv 電位測量精度：±5%　　本產(chǎn)品榮獲國家輕工部科技成果三等獎。

HQT-IA 微電腦多功能電解測厚儀   特性表
 
 
基本型
多層鎳型
測量原理
利用與鍍層、基材相對應的電解液、在一定的電流所溶解的硬度和時間成正比，來測定膜厚的一種測量方（卻運用電化學中的庫侖法來測定膜厚）
測量厚度的原理和基本型相同。
測量電位差是利用不同鎳層之間的電位差異來反映各層鎳的厚度及層間電位差。
可測定材料
可被電解液所電解金屬鍍層，如：鋼、鎳、鉻、鋅、銀、金、錫等。
基本型儀器可測量的各種鍍種的厚度及多層鎳的層間電位差。
測量范圍
0．03微米---99.99微米
厚度：0．03微米---99.99微米
電位差：-100mV--+400 mV
度
±10%
厚度：±10%  電位差：±5%
復現(xiàn)精度
＜5%
＜5%
測量質表示
LED4位顯示，其中兩位為小數(shù)。打印輸出四位數(shù)字，其中兩位為小數(shù)
除了擁有LED4位顯示和4位打印輸出以處還有繪圖儀輸出電位差曲線，繪圖儀輸出的圖形是X軸代表電位(mv)，Y軸代表厚度(微米 um)的座標軸上顯示的比例曲線。
測量面積
A橡皮墊圈  直徑2.5mm   B皮墊圈  直徑1.7 mm
A橡皮墊圈  直徑2.5mm   B皮墊圈  直徑1.7 mm
性能特點
操作簡便，復現(xiàn)性好，可測量單層，復合型電鍍，具有內(nèi)置徵電腦，直觀顯示各層厚度。
操作簡便，復現(xiàn)性好，可測量單層，復合型電鍍，具有內(nèi)置徵電腦，通過徵電腦處理，直觀顯示各層厚度及電位差。
設備配備
主機、電解池、有機測量架、橡皮墊圈、標準樣板、打印紙及支架、試劑瓶等。
主機、電解池、有機測量架、橡皮墊圈、標準樣板、打印紙及支架、試劑瓶、繪圖儀等。
 

該公司產(chǎn)品分類： 投影儀

TITRAPLATE 50MPC CVS循環(huán)伏安法電鍍液測試儀

工作原理：
       CVS 循環(huán)伏安測試儀在正負極限電壓之間以穩(wěn)定速率進行掃描記錄，其工作電極在電極電壓為負時為電鍍沉積過程，而當工作電極的電壓為正時，金屬沉積層被蝕刻溶解。
 
（可參考附件下載文件）

涂層測厚儀MP20電鍍層測量儀

  涂層測厚儀MP20電鍍層測量儀

HELMUT FISCHER公司提供了多種不同的便攜式儀器，可以滿足每個客戶的需要。

DUALSCOPE®儀器系列具有允許操作者選擇磁感應法或渦流法測量涂層厚度的能力。可以測量鋼上的涂鍍層厚度，也可以測量非鐵金屬上的涂鍍層厚度。

 
DUALSCOPE®MP20
DUALSCOPE®MP40
非鐵金屬上的油漆、陽極氧化層、瓷漆或塑料涂層
鋁上的陽極氧化層
鋼或鐵上的儀器、 瓷漆或塑料涂層
鋼或鐵上的非鐵金屬鍍層
數(shù)據(jù)儲存
 
統(tǒng)計計算
打印口/RS232 接口
 
可更換插入式智慧型探頭
測量范圍（μm）[mils]
取決于探頭
取決于探頭
電源
電池
交流電或電池
重量[g]
230
230
規(guī)格 (高x寬x深mm)[高x寬x深"]
160x80x30[4.25x2.6x1.2]
160x80x30[4.25x2.6x1.2]
涂層測厚儀MP20電鍍層測量儀特點

DUALSCOPE®MP20使用電磁感應和渦流兩種測試方法。提供了對于既要在鐵磁材料又要在非鐵材料上測量，并且不需要文件硬拷貝的應用需求的經(jīng)濟解決方案。儀器能自動地識別被測材料并選擇適合的測試方法。DUALSCOPE®MP20 配備有一個獨特的和便于讀取的60 x 30 mm （2.4" x 1.2"）液晶顯示器。大量顯示的信息使得操作異常簡便，包括單個測量讀數(shù)，測量次數(shù)，統(tǒng)計數(shù)據(jù)，Cp和 Cpk，產(chǎn)品規(guī)格限制超出，日期，時間，以及顯示操作模式和設置的圖標和符號，2行文本各16個字母或可自由選擇的符號以用于顯示數(shù)據(jù)和操作員提示。DUALSCOPE®MP20允許操作者根據(jù)不同的應用情況更換大量可供選擇的Fischer智慧型測量探頭。這種無約束的互換探頭的能力允許操作者僅僅通過簡單的探頭更換就能適應各種的測量情況。DUALSCOPE®MP20理想的適合于測量：  

  • 非鐵金屬鍍層（例如：鉻，銅，鋅等）在鐵或鋼上。  
  • 油漆、臘克和合成涂層在在鐵或鋼上。  
  • 非導電涂層在非鐵金屬基材上，例如油漆、臘克和合成涂層在鋁、銅、黃銅、鋅和不銹鋼上  
  • 鋁的陽極氧化層  
  • 一步測量鋼材上鍍鋅再鍍油漆的鍍層系統(tǒng)（雙鍍層）中各自的厚度。

DUALSCOPE®MP40是在MP20基礎上增加了數(shù)據(jù)采集功能。存儲容量多達1,000數(shù)據(jù)組的10,000個測量數(shù)據(jù)，帶動態(tài)存儲分配能力。100個測量應用的內(nèi)存可用于存儲校準和相關的測量數(shù)據(jù)。

QL-5E QL-10E ECI電鍍添加劑分析系統(tǒng)CVS 鉑金電極 參比電極

 

ECI電鍍添加劑分析系統(tǒng)CVS   鉑金電極  參比電極
 
品牌：美國ECI    此產(chǎn)品備有兩個型號：QL-5E 和QL-10E
 
功能特點：友好的操作界面，人機交流簡單明了。內(nèi)置多種分析程序，可適用于幾乎所有的電鍍浴 ，能分析其中有機化合物及無機物的含量。由有機污染物及添加劑的分解產(chǎn)物組成的相應曲線將出現(xiàn)在顯示器上，這些物質經(jīng)過碳處理后將被清除。可更換式電極能排出鍍液中有機污染物的影響及提高分析速度。內(nèi)置自動注射式光亮劑添加器，能提高操作人員的工作效率及分析精度。應用軟件可升級，包括SPC信息。重要的菜單可設置密碼保護。本系統(tǒng)包含一臺電腦，顯示器及打印機。 
典型的應用：能應用于機呼所有的電鍍浴分析。使用QL-5，你能地分析出有機添加劑，無機組分及有機污染物的含量。QL-5適用于：確定電鍍添加劑的加入量或減少量。掌握的碳處理時機。確定電鍍添加劑中各組分的消耗比例。使電鍍產(chǎn)品獲得的品質，推動電鍍業(yè)的發(fā)展。最重的是QL-5能快捷的分析電鍍浴是中添加劑的含量，以達到的電鍍效果。
 
供應CVS 電極：VAU310參比電極 VAU300鉑金電極CUQP5451銅電極 TAU325參比內(nèi)液等。
 
十多年來，我們一直服務于PCB 廠商、電鍍行業(yè)、科研機構、半導體生產(chǎn)、微電子、光電子、光通訊等電子行業(yè)。我們提供高質量的產(chǎn)品和質的服務都得到顧客的獎勵，在未來,我們將繼續(xù)履行顧客的期望、要求和需要，愿我們成為真誠的合作伙伴、共同描繪雙方的發(fā)展藍圖！
 

KGD系列三相硅控電鍍電源KGD系列

三相硅控電鍍電源KGD系列  技術特點與功能介紹  輸入為三相四線制380V，五芯柱六相雙反星形整流變壓器、次級硅控調(diào)壓方式。  控制電路密封耐腐蝕，模塊式結構，維護簡單方便。  定電壓、定電流二種工作模式自由轉換，穩(wěn)壓精度正負1%，穩(wěn)流精度正負2%。  有近控與遠控雙重控制，遠程控制可配多種功能控制盒，靈活方便。  額定電流：300A至3000A多種規(guī)格；  額定電壓：8V，12V，15V，18V，24V等。。                                                  (注：L為加濾波系統(tǒng)）

GGDS/GGDF整流器、整流設備、高頻脈沖電鍍電源

我司生產(chǎn)的產(chǎn)品以進口大功率絕緣柵雙極型晶體管“IGBT”模塊為主功率器件，以超微晶（又稱納米晶）軟磁合金材料為主變壓器鐵芯，主控制系統(tǒng)采用了多環(huán)控制技術，結構上采取了防鹽霧酸化措施，整機設計合理，性能。使用我司整流器、整流設備、高頻脈沖電鍍電源可明顯降低電鍍等生產(chǎn)成本,提高用電效率、提高產(chǎn)品質量,與可控硅整流器電源相比,電能耗可節(jié)省15%--30%,與硅整流器相比,電能耗可節(jié)省30%--50%，為用戶帶來可觀的經(jīng)濟效益，成為用戶用來替代老式可控硅整流器、硅整流器及油浸電源的選擇。適用于鍍金、鍍銀、鍍鋅、鍍鎳、鍍錫、鍍銅、鍍鉻、合金電鍍等各種電鍍場所。在陽極氧化、真空鍍膜、電解、電泳、電子產(chǎn)品老化等方面也得到用戶一致好評。特別是在PCB電路制板、凹版印刷制版領域，成為眾多客戶的電源產(chǎn)品。目前公司產(chǎn)品廣泛應用在廣東、江蘇、浙江、四川、福建、云南、遼寧、新疆、安徽等地。性能特點: 1、高性：在多年電鍍行業(yè)應用基礎上，經(jīng)過不斷創(chuàng)新，整機設計合理，主要零部件采用進口器件，核心部件采用國際專利技術產(chǎn)品，控制電路采用專有技術，保護齊全，隔離及防腐措施合理。 2、高穩(wěn)定性：系統(tǒng)反應速度快，對于網(wǎng)電及負載變化具有極強的適應性，輸出精度可達1%。 3、節(jié)電效果好：較可控硅整流器可節(jié)電15%-30%，對于電鍍企業(yè)降低成本發(fā)揮重要作用。 4、體積小、重量輕：體積與重量為可控硅整流器1/5-1/10，方便規(guī)劃、擴建、移動和安裝。5、輸出電壓，電流可調(diào)，限壓，限流可調(diào)，大大提高客戶使用靈活性，并有遠控操作功能。6、保護功能齊全，輸入過壓保護，輸出過熱過流保護，缺相保護，并有報警功能。技術指標：輸入電壓：三相380V±15% 輸出特性：恒流/恒壓可轉換 調(diào)節(jié)精度：≤1% 效　　率：≥89% 功率因數(shù)：≥90% 保護方式：過壓、欠壓、過熱、過流 冷卻方式：風冷或水冷 可選配置：PLC接口 環(huán)境溫度：-20℃-55℃ 環(huán)境濕度：≤90% 用電情況：我公司電源效率為89%，下面以3000A12V電源為例計算用電情況（工作時間為12小時）： 3000A 12V (開關電源) 　用電量： 36÷0.89×12=485（度） 3000A 12V (可控硅電源) 用電量： 36÷0.75×12=576（度） 與油浸電源比較：由于冷卻介質不同，水冷電源不存在漏油危險，性優(yōu)于油浸電源； 由于全部功率器件采用水冷方式，冷卻效果優(yōu)于油浸電源； 重量較油浸電源減少1/3左右； 機箱結構較簡單，便于維護； 散熱及功率器件不受油污染，便于維修。

產(chǎn)品規(guī)格：輸出電流范圍：1-15000A（常用規(guī)格）輸出電壓：1-100V以下，冷卻方式：風冷或水冷。另：可根據(jù)客戶特定的需求來定制不同規(guī)格型號的產(chǎn)品（電流1~20000A）,生產(chǎn)周期一周左右。服務：我公司產(chǎn)品實行一年保修，終身維護，可免費為客戶培訓維修人員。

KH智能電鍍層電解測厚儀

產(chǎn)品說明
測量對象： 單金屬鍍層：（Cu Zn、Ni、Ag、Sn、Cr等） 合金鍍層（Pb-Sn、Cr-Zn、Zn-Ni、Ni-P等）； 復合鍍層（Cu+Ni+Cr/Fe等）； 多線鍍層（需配用電位記錄儀，如與PC電腦連接則不需記錄儀）； 顯著特點: 一機多用！ZD-B智能電解厚儀＋PC電腦＝ZD-B智能電解測厚儀＋ZD-B型多線鍍層度-電位測定儀。

電鍍廢水測試包,重金屬離子測試包,污水快速試劑合

 
 
詳細資料請電：13 761400826
日本共立水質離子測試包有多款不同種類，主要檢測污水排放中重金屬離子及化學物離子濃度,
如:COD，氨氮，總氮，氯，殘余氯，銅，鎳，鉻，鋅 氰 磷酸，鐵,錳,氟,....
透過測試包表面所顯示的顏色，便能測出污水中金屬或化學品的濃度。
可廣泛地使用在污水測試、廢水排放,飲用水測試、研究環(huán)境污染,PCB廠，電鍍廠污水處理
一切液體離子含量及濃度分析等多方面，使用方法非常簡單而且非常安全，
快速準確任何人都會使用。
水質快速測試包特長：
無需PH校正 …………… PH5~PH9之間都可以使用
不用任何器具…………… 只要將預埋線拉出
快速得出結果…………… 大部分項目僅需約2-5分鐘時間
輕巧方便 …………… 每只試管重量約1公克
不會損壞 …………… 外層以PE塑膠制試管制成
以下是我司部分水質離子測試包詳細資料,請參考

No.
化學名
測量項目
測量范圍（mg/L）
測量時間
測量次數(shù)
1
Ag
銀離子試劑合
0、0.5、1、2、5以上
3分鐘
50次/盒
2
Al
鋁離子試劑合
0、0.05、0.1、0.2、0.5、1
1分鐘
40次/盒
3
Au
金離子試劑合
0、2、5、10、20
30秒
40次/盒
4
B
硼離子試劑合
0、0.5、1、2、5、10 ★★
30分鐘
50次/盒
5
Ca
鈣離子試劑合
0、2、5、10、20、50以上
2分鐘
50次/盒
6
鈣硬度
0、5、12.5、25、50、125以上
7
Cl（300）
氯化物（300）
200、250、300以上
10秒
40次/盒
8
Cl（200）
氯化物（200）
100、150、200以上
10秒
40次/盒
9
Cl（D）
氯化物（低濃度）
0、2、5、10、20、50以上
1分鐘
40次/盒
10
ClO（C）
殘留氯（高濃度）
5、10、20、30、50、100、150、200、300、600、1000以上 ★★
10秒
50次/盒
11
ClO·DP
殘留氯（游離·DPD法）
0.1、0.2、0.4、1、2、5
10秒
50次/盒
12
T·ClO
總殘留氯
0.1、0.2、0.4、1、2、5 ★★
2分鐘
50次/盒
13
ClO2
二氧化氯
0.2、0.4、0.6、1、2、5、10 ★★
10秒
40次/盒
14
CN
游離氰
0.02以下、0.05、0.1、0.2、0.5、1、2 ★
10分鐘
40次/盒
15
COD（H）
COD高濃度
0、30、60、120、200、250以上
5分鐘
50次/盒
16
COD
COD水質測試包
0、5、10、13、20、50、100
5分鐘
50次/盒
17
COD（D）
COD低濃度測試包
0、2、4、6、8以上
5分鐘
50次/盒
18
Cr6＋
六價鉻離子檢測
0.05、0.1、0.2、0.5、1、2 ★★
2分鐘
50次/盒
19
Cr·T
總鉻離子測試包
0.5、1、2、5、10、20
5.5分鐘
40次/盒
20
Cu
銅離子水質測試包
0.5、1、2、3、5、10以上 ★★
1分鐘
50次/盒
21
Cu
銅離子檢測
0.5、1、3、5、10
2分鐘
50次/盒
22
F
氟（游離）
0、0.4、0.8、1.5、3、8以上 ★
10分鐘
50次/盒
23
Fe
鐵離子試劑合
0.2、0.5、1、2、5、10 ★
2分鐘
50次/盒
24
Fe（D）
鐵（低濃度）
0.05、0.1、0.3、0.5、1、2 ★★
2分鐘
50次/盒
25
Fe2+
2價鐵
0.2、0.5、1、2、5、10 ★
30秒
50次/盒
26
Fe2+（D）
2價鐵（低濃度）
0.1、0.2、0.5、0.8、1.2、2.5 ★
30秒
50次/盒
27
FOR
甲醛離子測試包
0、0.1、0.2、0.3、0.5、1、2 ★
4分鐘
40次/盒
28
H2O2
過氧化氫離子檢測
0.02、0.1、0.2、0.5、1、5 ★★
1分鐘
50次/盒
29
H2O2（C）
過氧化氫（高濃度）
3、7、13、20、35、70、100、130、200、400、700 ★★
20秒
50次/盒
30
HYD
肼
0.05、0.1、0.2、0.5、1、2
10分鐘
40次/盒
31
Me
金屬總量（5種）
0、0.2、0.5、1、2、5以上
1分鐘
50次/盒
32
Mg
鎂離子測試包
0、1、2、5、10、20
1分鐘
50次/盒
33
鎂硬度
0  4.1、8.2、20.5、41、82
34
Mn
錳離子測試包
0.5、1、2、5、10、20 ★★
30秒
50次/盒
35
NH4（C）
氨（排水）
0、0.5、1、2、5、10、20以上
15分鐘
50次/盒
36
銨態(tài)氮（排水）
0、0.4、0.8、1.6、4、8、16以上
37
NH4
氨氮離子測試包
0.2、0.5、1、2、5、10 ★★
5分鐘
50次/盒
38
銨態(tài)氮
0.16、0.4、0.8、1.6、4、8 ★★
39
Ni
鎳離子測試包
0.5、1、2、5、10
2分鐘
50次/盒
40
Ni（D）
鎳離子污水測試包
0.3、0.5、1、2、5、10 ★★
2分鐘
50次/盒
41
NO2（C）
亞硝酸（高濃度）
16、33、66、160、330、660以上 ★
5分鐘
50次/盒
42
亞硝酸鹽氮（高濃度）
5、10、20、50、100、200以上 ★
43
NO2
亞硝酸離子測試
0.02  0.05  0.1  0.2  0.5  1 ★★
2分鐘
50次/盒
44
亞硝酸鹽氮
0.005  0.01  0.02  0.05  0.1  0.2  0.5 ★★
45
NO3（C）
硝酸（高濃度）
90、225、450、900、2250、4500 ★
5分鐘
50次/盒
46
硝酸氮（高濃度）
20、50、100、200、500、1000 ★
47
NO3
硝酸離子測試包
1、2、5、10、20、45 ★★
3分鐘
50次/盒
48
硝酸氮
0.2、0.5、1、2、5、10 ★★
49
O3
臭氧離子測試包
0.1、0.2、0.5、1、2、5 ★★
1分鐘
50次/盒
50
PH
PH
PH 5.0-9.5，（0.5間隔10級）
20秒
50次/盒
51
TBL
TBL
PH 1.6-3.4，（0.2間隔10級）
20秒
50次/盒
52
BCG
BCG（酸雨用）
PH 3.6-6.2，（0.2間隔14級）
20秒
50次/盒
53
BTB
BTB
PH 5.8-8.0以上，（0.2間隔12級）
20秒
50次/盒
54
TBH
TBH
PH 8.2-9.6，（0.2間隔7級）
20秒
50次/盒
55
Pd
鈀
1、2、5、10、20、30、50
1分鐘
50次/盒
56
PMD
高錳酸鉀消耗量
（浴池，水池）
0、3、6、10、12、15
7分鐘
50次/盒
57
PNL
苯酚離子測試包
0、0.2、0.5、1、2、5、10 ★★
8分鐘
40次/盒
58
PO4（C）
磷酸（高濃度）
2、5、10、20、50、100 ★★
1分鐘
40次/盒
59
磷酸鹽（高濃度）
0.66、1.65、3.3、6.6、16.5、33 ★★
60
PO4
磷酸離子濃度試劑合
0.2、0.5、1、2、5、10 ★★
1分鐘
40次/盒
61
磷酸鹽離子試劑合
0.066、0.165、0.33、0.66、1.65、3.3 ★★
62
PO4（D）
磷酸（低濃度）
0.05、0.1、0.2、0.5、1、2 ★★
5分鐘
40次/盒
63
磷酸鹽（低濃度）
0.02、0.05、0.1、0.2、0.5、1 ★★
64
S
硫化物（硫化氫）
0.1、0.2、0.5、1、2、5 ★
3分鐘
40次/盒
65
SiO2
二氧化硅
2、5、10、20、50、100、200 ★★
6.5分鐘
40次/盒
66
SiO2（D）
二氧化硅（低濃度）
0.5、1、2、5、10、20 ★★
6.5分鐘
40次/盒
67
SO3（C）
亞硫酸（高濃度）
50、100、200、500、1000、2000
10秒
50次/盒
68
TH
總硬度
0、10、20、50、100、200 ★
30秒
50次/盒
69
TN·i
總氮（無機）
0、5、10、25、50、100
20分鐘
40次/盒
70
Zn
鋅離子濃度試劑合
0、0.2、0.5、1、2、5以上
1分鐘
50次/盒
前處理劑
名稱
目的
測量次數(shù)
71
Cr-RA
全鉻前處理劑
3價鉻轉換成6價鉻時必用
100
72
NO3-RA
硝酸前處理劑
在溶液混有NO2時必用
50
73
WAS-D-SO4
溶解鐵用的稀硫酸
中和處理、金屬類測定時酸處理
20ml
74
WA-NH4-D
氨分離濃縮試劑
除去溶液中干擾物質時用
50
75
UVR-Me
金屬分解裝置
有機物分解裝置
50

該公司產(chǎn)品分類： 共立水質測試包 孔銅測厚儀 X光測厚儀 其他檢測設備 其他檢測設備 其他 自動添加控制器 電鍍生產(chǎn)線自動添加設備 測厚儀

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