光學(xué)平臺產(chǎn)品及廠家
:led（light emitting diode），半導(dǎo)體發(fā)光二極管，是一種固態(tài)的半導(dǎo)體器件，它可以直接把電轉(zhuǎn)化為光，以其低功耗，高效率，高穩(wěn)定型等特點在照明、光通信等領(lǐng)域逐步替代傳統(tǒng)光源。對led的各項參數(shù)的理解與測試方式的掌握是開發(fā)應(yīng)用此類器件的基礎(chǔ)。采用新光電器件及現(xiàn)在工業(yè)廣泛應(yīng)用的測試方法開發(fā)的此套教學(xué)實驗產(chǎn)品適用于光電專業(yè)本科生基礎(chǔ)光電實驗及高職院校學(xué)生實訓(xùn)課程。
更新時間:2025-09-07
lite （for toxirae 3）自動標(biāo)定平臺autorae 自動標(biāo)定系統(tǒng)可用于華瑞系列便攜式氣體檢測儀的自動標(biāo)定、自動回讀測試和自動充電。支持多種型號便攜表，無需連接計算機，操作簡單。 主要特點• 自動標(biāo)定• 自動回讀測試• 自動充電̶
更新時間:2025-09-07
自動標(biāo)定平臺品 說 明 autorae 自動標(biāo)定系統(tǒng)可用于華瑞系列便攜式氣體檢測儀的自動標(biāo)定、自動回讀測試和自動充電。支持多種型號便攜表，無需連接計算機，操作簡單。 主要特點• 自動標(biāo)定• 自動回讀測試• 自動充電• 簡單的按鍵操作• 無需連接計算機• 標(biāo)定和測試結(jié)果數(shù)據(jù)直接打印
更新時間:2025-09-07
dvia精密主動隔振光學(xué)平臺具有非常優(yōu)秀的隔振性能，特別是在低頻0.5hz- 10hz達(dá)到90%以上的隔振效率，隔振性能優(yōu)異,廣泛應(yīng)用于掃描探針顯微鏡,原子力顯微鏡，掃面隧道顯微鏡，激光干涉儀 ,半導(dǎo)體檢測設(shè)備，三維形貌分析儀和激光共聚焦顯微鏡等
更新時間:2025-09-07
zdvt系列為卓立漢光研發(fā)的桌面型氣浮隔振光學(xué)平臺，采用半膜片式空氣彈簧技術(shù)，配合鐵磁不銹鋼臺面和桌面型框架精密裝調(diào)而成， 整體高度211mm，分為氣浮式桌面型框架和臺面兩部分。
更新時間:2025-09-07
拼接式隔振平臺定制型的本質(zhì)還是隔振平臺，是標(biāo)準(zhǔn)的平臺按照使用者的需求連接起來，達(dá)到實際的使用效果，采用拼接的方式，是實現(xiàn)這一目的的方法。
更新時間:2025-09-07
nap系列是卓立漢光采用三線擺技術(shù)、層流阻尼技術(shù)所設(shè)計的高性能氣浮隔振平臺，豎直方向和水平方向隔振性能好、振動恢復(fù)時間短。
更新時間:2025-09-07
dvio-b系列光學(xué)平臺為韓國daeil（大一）株式會社生產(chǎn)的50/100/200/300mm厚的不銹鋼面包板（也用于作為大一光學(xué)平臺臺面），該面包板整體采用三層夾心式結(jié)構(gòu)，上臺面為熱變形系數(shù)很小的430系列高導(dǎo)磁鎳合不銹鋼，中間為真蜂窩支撐結(jié)構(gòu)，底面為鋼板，具有高剛性和非常優(yōu)秀的隔振效果。
更新時間:2025-09-07
zlt（zolix low cost pneumatic optical table）系列為卓立漢光自行生產(chǎn)的氣浮式隔振光學(xué)平臺，整體高度800mm，分為臺面和支撐兩部分。臺面采用三層夾心式結(jié)構(gòu)，上臺面為鐵磁不銹鋼，上臺面厚度4 ～ 6mm，中間為井字形蜂窩支撐結(jié)構(gòu)，底面為碳鋼板，臺面具有高剛性和非常優(yōu)秀的隔振效果。上臺面采用精密磨削工藝
更新時間:2025-09-07
thp（true honeycomb pneumatic：optical table）系列為我公司正在研制的氣浮式支架配合真蜂窩臺面的隔振光學(xué)平臺，設(shè)計性能達(dá)到國際水平，平臺分為真蜂窩臺面和氣浮支架兩部分，臺面采用三層夾心式結(jié)構(gòu)，上臺面為1cr13鐵磁不銹鋼，上臺面厚度4～6mm，內(nèi)部為真蜂窩支撐結(jié)構(gòu)，底面為碳鋼板，臺面具有高剛性和非常優(yōu)秀的隔振效果。上臺面采用精密磨削工藝，臺面的平面度達(dá)到0.02～0.05mm/600mm×600mm，臺面上按照25mm×25mm孔距均布m6螺紋孔，方便安裝各類位移臺和調(diào)整架。
更新時間:2025-09-07
zvb（vibration table：breadboard from zolix）系列是采用韓國大一氣浮支架，配合卓立漢光的光學(xué)平臺臺面，組合而成的氣浮式隔振光學(xué)平臺，整體高度800mm，分為臺面和支撐兩部分，臺面采用三層夾心式結(jié)構(gòu)，上臺面為1cr13鐵磁不銹鋼，上臺面厚度4～6mm，中間為井字形蜂窩支撐結(jié)構(gòu)，底面為碳鋼板，臺面具有高剛性和非常優(yōu)秀的隔振效果。上臺面采用精密磨削工藝臺面的平面度達(dá)到0.2~0.05mm/600mm×600mm,
更新時間:2025-09-07
浮式隔振光學(xué)平臺，由臺面和支撐兩部分組成。臺面采用三層夾心式結(jié)構(gòu)，上臺面為熱變形系數(shù)很小的430系列高導(dǎo)磁鎳合不銹鋼，中間為真蜂窩支撐結(jié)構(gòu)，底面為鋼板，具有高剛性和非常優(yōu)秀的隔振效果。上臺面按照25mm×25mm孔距均布m6螺紋孔，方便安裝各類位移臺和調(diào)整架，每個螺紋孔下方具有獨立的隔離杯密封，非常方便清潔。
更新時間:2025-09-07
dvim系列-t型空氣注入式隔振墊震動隔離：氣墊隔離 ;固有頻率：（垂直/水平）1.5-2.0hz ;衰減方式：孔式空氣阻尼;roll-off rate[10hz]: -32~-35db ;水平方式：由3個自動調(diào)平閥自動調(diào)平系統(tǒng)
更新時間:2025-09-07
nano系列小型主動隔振平臺，專為小型和輕型應(yīng)用而設(shè)計！自從高分辨率測量和制造技術(shù)達(dá)到納米尺度以來，振動就一直是一個重要問題。有*消除振動干擾是獲得精確和可重復(fù)測量結(jié)果的關(guān)鍵。解決方法是將儀器與振動源隔離開來。
更新時間:2025-09-07
variobasic 系列主動隔振光學(xué)平臺，兩個或四個模塊化手動負(fù)載調(diào)節(jié)隔振元件和控制器，適用于大負(fù)載場景安裝在臺面下方或設(shè)備下方，用于消除低頻震動。
更新時間:2025-09-07
workstation 集成i4的人體工程學(xué)實驗臺，將i4隔振平臺與桌面集成在一起的主動隔振平臺桌。
更新時間:2025-09-07
workstation vario集成vario實驗臺，集成vario的人體工程學(xué)實驗臺，下方帶有腳輪便于移動，便于實驗。適用于搭配3d輪廓儀、電子顯微鏡等。
更新時間:2025-09-07
歐庫睿因sandwich 系列重負(fù)載隔振平臺，重負(fù)載主動隔振平臺，最大負(fù)載1200kg,可放置于光學(xué)平臺或大型設(shè)備下方，具有良好的負(fù)載以及主動隔振性能。
更新時間:2025-09-07
duo系列 重載主動隔振平臺，重載型主動隔振模組、單個模組可負(fù)載400kg,可多個模塊并聯(lián)使用，適用于大負(fù)載設(shè)備主動隔振。
更新時間:2025-09-07
ae系列隔音罩 隔離空氣噪聲，適用于相關(guān)設(shè)備的隔除噪音，搭配主動隔振平臺或者光學(xué)平臺使用，有多種尺寸可以選擇。
更新時間:2025-09-07
本實驗裝置是基于國家大學(xué)生創(chuàng)新實驗項目和競賽項目的基礎(chǔ)上改進(jìn)完善提高后定型的。是結(jié)合了智能家居、智能樓宇的設(shè)計理念，融合光電技術(shù)、物聯(lián)網(wǎng)技術(shù)，嵌入式技術(shù)等等為一體的綜合性設(shè)計開發(fā)平臺，該裝置設(shè)計理念先進(jìn)，科技含量高，綜合性強，屬于多學(xué)科交叉的實驗儀器，實驗設(shè)計平臺的各個部分，既有與光電、傳感器等的原理密切相關(guān)的基礎(chǔ)實驗，又有利用無線組網(wǎng)傳感、手機遠(yuǎn)程
更新時間:2025-09-07
jbx-8100fs 圓形電子束光刻系統(tǒng)· 最新高精密jbx-8100fs圓形電子束光刻系統(tǒng)，通過全方位的設(shè)計優(yōu)化，實現(xiàn)更簡便的操作，更快的刻寫速度，更小的占地面積和安裝空間，并且更加綠色節(jié)能。
更新時間:2025-09-05
美coherent excistarxs準(zhǔn)分子激光器超緊湊、輕型、高度可靠的紫外線光源
更新時間:2025-09-05
nanoarch p130是科研3d打印系統(tǒng)，擁有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印層厚，從而實現(xiàn)超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。
更新時間:2025-09-05
the oai solar energy meter measures solar simulator irradiance in "sun" units, for example, with one sun equaling 1000 w/m2 at 25 °c at airmass 1.5 global conditions.
更新時間:2025-09-05
30型uv光源是高效的，可用于各種應(yīng)用。光由橢圓形反射器收集并聚焦在積分/聚光透鏡陣列上，以在曝光平面產(chǎn)生均勻的照明。這種紫外光源提供多種光束尺寸，最大24英寸平方，輸出光譜范圍從220 nm到450 nm，使用適當(dāng)?shù)臒簦òǎ］敵龉β史秶鷱?00瓦到5千瓦。所有oai uv光源都易于配備快速更換過濾器組件，使用戶能夠輕松定制輸出光譜。可選配遠(yuǎn)程排氣風(fēng)扇。
更新時間:2025-09-05
oai 200型光刻機是一種具有成本效益的高性能掩模對準(zhǔn)器，采用經(jīng)過行業(yè)驗證的組件，使oai成為光刻設(shè)備行業(yè)的導(dǎo)者。 200型是臺式面罩對準(zhǔn)器，需要小的潔凈室空間。它為研發(fā)，或有限規(guī)模，試點生產(chǎn)提供了經(jīng)濟(jì)的替代方案。利用創(chuàng)新的空氣軸承/真空吸盤調(diào)平系統(tǒng)，襯底快速平穩(wěn)地平整，用于平行光掩模對準(zhǔn)和在接觸曝光期間在晶片上的均勻接觸。該系統(tǒng)能夠?qū)崿F(xiàn)一微米分辨率和對準(zhǔn)精度。
更新時間:2025-09-05
2012sm型自動邊緣曝光系統(tǒng)為使用標(biāo)準(zhǔn)陰影掩模技術(shù)的邊緣珠去除提供了一種經(jīng)濟(jì)高效的方法。 設(shè)計用于容納8“到300mm的晶片，該工具具有自動foup裝載。 掩模和基材切換可以快速且容易地實現(xiàn)，從而增加該生產(chǎn)工具的通用性和高產(chǎn)量。
更新時間:2025-09-05
2012sm型自動邊緣曝光系統(tǒng)為使用標(biāo)準(zhǔn)陰影掩模技術(shù)的邊緣珠去除提供了一種經(jīng)濟(jì)高效的方法。 設(shè)計用于容納8“到300mm的晶片，該工具具有自動foup裝載。 掩模和基材切換可以快速且容易地實現(xiàn)，從而增加該生產(chǎn)工具的通用性和高產(chǎn)量。
更新時間:2025-09-05
兩種型號的2000型曝光系統(tǒng)包括uv光源，強度控制電源和機器人襯底處理子系統(tǒng)。 uv光源提供發(fā)散半角<2.0％的可調(diào)強度光束。電源從200w到2,000w。強度控制器傳感器直接連接到光源，用于精確的強度監(jiān)控。機器人襯底處理系統(tǒng)是微處理器控制的，并且可以被編程以適應(yīng)各種各樣的襯底尺寸。
更新時間:2025-09-05
oai 5000e型大面積掩光刻機是一種先進(jìn)的高性能，全自動掩模對準(zhǔn)器和曝光工具，可為大型平板應(yīng)用提供超精密，頂，亞微米對準(zhǔn)和分辨率。 其靈活的設(shè)計允許在各種基材（圓形或方形）上印刷高達(dá)300mm或20“×20”。 曝光系統(tǒng)兼容近，中，或深紫外范圍的光刻膠，并具有計算機控制的led顯微鏡照明，在不太理想的觀察環(huán)境中觀察。
更新時間:2025-09-05
phabler 100 紫外光刻機是一套低成本的光學(xué)曝光系統(tǒng)，但卻能獲得高分辨率的周期性結(jié)構(gòu)。同傳統(tǒng)的紫外曝光機類似，涂覆了光刻膠的晶片以接近方式放置在掩膜版下面，被紫外光束照射。由于eulitha公司擁有突破性的phable 曝光技術(shù)，在"phable"模式下，分辨率不再受到衍射的限制，從而曝光出亞微米的線性光柵和二維光柵（六角形和正方形），且曝光結(jié)果非常均勻，質(zhì)量很好。
更新時間:2025-09-05
raith 150 two可實現(xiàn)亞5nm的曝光結(jié)構(gòu)，可處理8”晶元及以下樣片。環(huán)境屏蔽罩保證了系統(tǒng)的熱穩(wěn)定性，提高設(shè)備對實驗室環(huán)境的容忍度，即使在相對糟糕的實驗室環(huán)境下，也能保證系統(tǒng)的正常穩(wěn)定運行。
更新時間:2025-09-05
raith 150 two可實現(xiàn)亞5nm的曝光結(jié)構(gòu)，可處理8”晶元及以下樣片。環(huán)境屏蔽罩保證了系統(tǒng)的熱穩(wěn)定性，提高設(shè)備對實驗室環(huán)境的容忍度，即使在相對糟糕的實驗室環(huán)境下，也能保證系統(tǒng)的正常穩(wěn)定運行。
更新時間:2025-09-05
德國raith voyager 新一代超高分辨率電子束光刻機,系統(tǒng)可實現(xiàn)8英寸樣品的高速曝光。系統(tǒng)的穩(wěn)定性是非常關(guān)鍵的指標(biāo)，可保證大面積均勻曝光。該系統(tǒng)外部采用環(huán)境屏蔽罩，即使在稍差的實驗室環(huán)境下，仍然能確保系統(tǒng)具有非常好的熱穩(wěn)定性，提高系統(tǒng)對外界環(huán)境的容忍度。
更新時間:2025-09-05
ebpg5150使用了155mm大小的樣品臺，采用跟ebpg5200一樣的通用光刻平臺設(shè)計，對電子束直寫應(yīng)用進(jìn)行了優(yōu)化。它可以載入不同大小的樣品,包括多片散片以及完整的硅片。
更新時間:2025-09-05
系統(tǒng)中集成了高精度的激光干涉工作臺，運動行程為50 x 50 x 25mm，xy方向定位精度為2nm，可以實現(xiàn)精確的拼接套刻，拼接套刻精度≤50nm。
更新時間:2025-09-05
ure-2000s/35l（a）型紫外雙面光刻機，曝光面積：6 英寸，正面對準(zhǔn)采用雙目雙視場對準(zhǔn)顯微鏡：既可通過目鏡目視對準(zhǔn)，也可通過 ccd+顯示器對準(zhǔn)，光學(xué)合像，光學(xué)大倍數(shù) 400 倍，光學(xué)+電子放大 800 倍
更新時間:2025-09-05
ure-2000s/35l（b）型雙面光刻機, 曝光面積：4 英寸, 正面對準(zhǔn)采用雙目雙視場對準(zhǔn)顯微鏡：既可通過目鏡目視對準(zhǔn)，也可通過 ccd+顯示器對準(zhǔn)，光學(xué)合像，光學(xué) 大倍數(shù) 400 倍，光學(xué)+電子放大 800 倍
更新時間:2025-09-05
ure-2000/30 型紫外單面光刻機,高倍率雙目雙視場顯微鏡和 22 英寸寬屏液晶顯示同時觀察對準(zhǔn)過程，并提供 usb 輸出；既滿足高精度對準(zhǔn)，又可用于檢測曝光結(jié)果，且曝光結(jié)果和方便存儲
更新時間:2025-09-05
ure-2000/35al 型紫外單面光刻機,曝光面積：150mm×150mm；分辨力：1.0μm（365nm 波長）,對準(zhǔn)精度：≤±0.8μm
更新時間:2025-09-05
美國 oai 光刻機 model 200 型桌面掩模對準(zhǔn)器系統(tǒng)，完全手工操作，輸出光譜范圍:hg: g(436海里),h(405海里),i(365nm)和310nm線，hg-xe: 260nm和220nm或led: 365nm, 395nm, 405nm
更新時間:2025-09-05
oai model 212型桌面掩模對準(zhǔn)系統(tǒng), 輸出光譜范圍:hg: g(436nm),h(405nm),i(365nm)和310nm,hg-xe: 260 nm和220 nm或led:365 nm、395 nm和405 nm
更新時間:2025-09-05
最新產(chǎn)品
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