光學平臺產品及廠家
oai 5000e型大面積掩光刻機是一種先進的高性能，全自動掩模對準器和曝光工具，可為大型平板應用提供超精密，頂，亞微米對準和分辨率。 其靈活的設計允許在各種基材（圓形或方形）上印刷高達300mm或20“×20”。 曝光系統兼容近，中，或深紫外范圍的光刻膠，并具有計算機控制的led顯微鏡照明，在不太理想的觀察環境中觀察。
更新時間:2025-09-08
phabler 100 紫外光刻機是一套低成本的光學曝光系統，但卻能獲得高分辨率的周期性結構。同傳統的紫外曝光機類似，涂覆了光刻膠的晶片以接近方式放置在掩膜版下面，被紫外光束照射。由于eulitha公司擁有突破性的phable 曝光技術，在"phable"模式下，分辨率不再受到衍射的限制，從而曝光出亞微米的線性光柵和二維光柵（六角形和正方形），且曝光結果非常均勻，質量很好。
更新時間:2025-09-08
raith 150 two可實現亞5nm的曝光結構，可處理8”晶元及以下樣片。環境屏蔽罩保證了系統的熱穩定性，提高設備對實驗室環境的容忍度，即使在相對糟糕的實驗室環境下，也能保證系統的正常穩定運行。
更新時間:2025-09-08
raith 150 two可實現亞5nm的曝光結構，可處理8”晶元及以下樣片。環境屏蔽罩保證了系統的熱穩定性，提高設備對實驗室環境的容忍度，即使在相對糟糕的實驗室環境下，也能保證系統的正常穩定運行。
更新時間:2025-09-08
德國raith voyager 新一代超高分辨率電子束光刻機,系統可實現8英寸樣品的高速曝光。系統的穩定性是非常關鍵的指標，可保證大面積均勻曝光。該系統外部采用環境屏蔽罩，即使在稍差的實驗室環境下，仍然能確保系統具有非常好的熱穩定性，提高系統對外界環境的容忍度。
更新時間:2025-09-08
ebpg5150使用了155mm大小的樣品臺，采用跟ebpg5200一樣的通用光刻平臺設計，對電子束直寫應用進行了優化。它可以載入不同大小的樣品,包括多片散片以及完整的硅片。
更新時間:2025-09-08
系統中集成了高精度的激光干涉工作臺，運動行程為50 x 50 x 25mm，xy方向定位精度為2nm，可以實現精確的拼接套刻，拼接套刻精度≤50nm。
更新時間:2025-09-08
日本jeol熱場發射掃描電子顯微鏡 jsm-7900f，它繼承了上一代廣獲好評的性能如高的空間分辨率、高穩定性、多種功能等的同時，操作性能大簡單化。該設備不依賴操作者的技能，始終能夠發揮其佳性能。
更新時間:2025-09-08
日本jeol熱場發射掃描電子顯微鏡 jsm-7900f，它繼承了上一代廣獲好評的性能如高的空間分辨率、高穩定性、多種功能等的同時，操作性能大簡單化。該設備不依賴操作者的技能，始終能夠發揮其佳性能。
更新時間:2025-09-08
日本jeol能譜儀jed-2300/2300f analysis station是以“圖像觀察和分析“ 為基本理念的tem/eds集成系統。通過與sem的馬達驅動樣品臺聯動使用，可以進行大范圍的觀察和分析。 eds通過檢測被電子束激發出的樣品特征x射線，確定樣品含有的元素及成分比，可以進行微區的點分析、線分析及面分析。
更新時間:2025-09-08
日本jeol掃描電子顯微鏡 jsm-it500，是jeol intouchscope系列的新機型。 從設定視野到生成報告，用于分析的軟件整合于一體，加快了作業速度！是一款無縫操作，使用更加方便的掃描電子顯微鏡。
更新時間:2025-09-08
日本jeol 熱場發射掃描電子顯微鏡 jsm-7200f，jsm-7200f的電子光學系統應用了日本電子旗艦機-jsm-7800f prime采用的浸沒式肖特基電子槍技術，標配了ttls系統（through-the-lens system），因此無論是在高/低加速電壓下，空間分辨率都比傳統機型有了很大的提升。
更新時間:2025-09-08
新一代超高精度電子束光刻機 p21，樣品尺寸覆蓋 2/4/6 英寸晶圓，超高寫場拼接精度，電子束閉環控制系統，束流的時間及空間穩定性高，高性能 30 kv 電子束光刻機。
更新時間:2025-09-08
opticool超精準全開放強磁場低溫光學研究平臺，系統擁有3.8英寸超大樣品腔、雙錐型劈裂磁體，可在超大空間為您提供高達±7t的磁場。多達7個側面窗口、1個頂部超大窗口方便光線由各個方向引入樣品腔，高度集成式的設計讓您的樣品在擁有低溫磁場的同時擺脫大型低溫系統的各種束縛。
更新時間:2025-09-08
attoafm/attomfm/attoshpm 低溫強磁場原子力/磁力/掃描霍爾顯微鏡，采用模塊化的設計。利用標配的控制器和樣品掃描臺，用戶僅需要更換掃描頭和對應的光學部件即可實現不同功能之間的切換。
更新時間:2025-09-08
208hr高分辨離子濺射儀-適用于場發射掃描電鏡，可選擇多種鍍膜材料，精確的膜厚控制，樣品臺控制靈活，多個樣品座，樣品室幾何可變，寬范圍的操作壓力，緊湊、現代的桌上型設計，操作容易。
更新時間:2025-09-08
ksi v-octo 八探頭大型超聲波掃描顯微鏡系統，該系統同時使用8只換能器，能最大限度的確保快速圖像采集和高效能。
更新時間:2025-09-08
100s接觸角測量儀是采用光學成像的原理，通過圖像輪廓分析方式測量樣品表面接觸角、潤濕性能、表界面張力、表面能等性能，設備性價比高、功能全面、可滿足各種常規測量需要。
更新時間:2025-09-08
德國kruss標準型dsa25接觸角測量儀，接觸角測量范圍：0-180，接觸角測量精度：±0.10，表界面張力測量范圍：0-1000mn/m；測量精度：0.01 mn/m
更新時間:2025-09-08
ure-2000 系列紫外單面光刻機此系列包含六種型號：ure-2000a,ure-2000b,ure-2000/35,ure-2000/35a,ure-2000/25,ure-2000/17
更新時間:2025-09-08
日本rion氣體粒子計數器：kc-32 ( 光散射法）測試粒徑（6個通道）：≥0.3μm， ≥0.5μm ， ≥1μm ， ≥2μm， ≥5μm, ≥10μm
更新時間:2025-09-08
日本rion氣體粒子計數器：kc-20a ( 光散射法）,測試粒徑（5個通道）：≥10μm， ≥20μm ， ≥30μm ， ≥50μm， ≥100μm
更新時間:2025-09-08
日本rio液體粒子計數器ke-18fx ( 光散射法）,測試粒徑（4個通道）：≥0.04μm， ≥0.08μm ， ≥0.1μm ， ≥0.15μm，
更新時間:2025-09-08
日本rion液體光學顆粒度儀 ks-42d ( 光散射法），大粒子數濃度：10 000 顆/l （誤差值低于10%），粒徑范圍（8個通道，出廠默認）：≥2μm， ≥3μm ， ≥5μm ， ≥7μm, ≥10μm， ≥25μm ， ≥50μm ， ≥100μm(可選 ≥150μm）
更新時間:2025-09-08
日本rion粒子計數器：kl-30ax ( 光散射法）,大粒子數濃度：15 000 顆/l （誤差值低于10%）, 粒徑范圍（4個通道，工廠標配）：≥0.04μm， ≥0.08μm ， ≥0.1μm ， ≥0.15μm
更新時間:2025-09-08
日本rion氣體粒子計數器：kl-30a ( 光散射法）, 測純水，可打印。大粒子數濃度：15 000 顆/l （誤差值低于10%）, 粒徑范圍（4個通道，出廠設置）：≥0.05μm， ≥0.1μm ， ≥0.15μm ， ≥0.2μm
更新時間:2025-09-08
日本rion氣體粒子計數器：kl-30b ( 光散射法）, 測純水，可打印。大粒子數濃度：200 000 顆/l （誤差值低于10%），粒徑范圍（4個通道，出廠設置）：≥0.05μm， ≥0.1μm ， ≥0.15μm ， ≥0.2μm
更新時間:2025-09-08
日本rion 手持式粒子計數器：kc-51( 光散射方式）,大粒子數濃度：140 000 000顆/m³ （誤差值低于10%）
更新時間:2025-09-08
日本rion 手持式粒子計數器：kc-52( 光散射方式）,粒徑范圍：5個通道： 0.3μm ， 0.5μm , 1.0μm , 2.0μm, 5.0μm, 大粒子數濃度：140 000 000顆/m³ （誤差值低于10%）
更新時間:2025-09-08
日本rion氣體粒子計數器：ka-02( 光散射方式）,多點監視用粒子計數器，測試粒徑（2個通道）：≥0.3μm ， ≥0.5μm，大粒子數濃度：140 000 000顆/l （誤差值低于10%）
更新時間:2025-09-08
日本rion氣體粒子計數器：ka-03( 光散射方式）,多點監視用粒子計數器，測試粒徑（5個通道）：≥0.3μm ， ≥0.5μm ，≥1μm ， ≥2μm ，≥5μm ，大粒子數濃度：140 000 000顆/l （誤差值低于10%）
更新時間:2025-09-08
日本rion氣體粒子計數器：ka-82( 光散射方式）,多點監視用粒子計數器，測試粒徑（5個通道）：≥0.1μm ， ≥0.15μm， ≥0.2μm ， ≥0.3μm ， ≥0.5μm ，大粒子數濃度：10 000顆/l （誤差值低于5%）
更新時間:2025-09-08
玻璃去油墨設備,采用訂制紫外納激光器對玻璃表面進行去油墨以及油墨微加工， 將產品損傷降至低。
更新時間:2025-09-08
oai 800型光學正面和背面光刻機系統, 是半自動,four-camera、光學正面和背面光刻機。它提供其精確的(1碌m - 2 m碌)對準精度,旨在大大超過任何紅外背后對準器性能的一個非常有競爭力的價格。通用模型800光刻機是理想的用于低產量、研發實驗室和大學。
更新時間:2025-09-08
瑞士nanofrazor 3d納米結構高速直寫機，源于發明stm和afm的ibm蘇黎世研發中心，是其在納米加工技術的新研究成果。nanofrazor納米3d結構直寫機第 一次將納米尺度下的3d結構直寫工藝快速化、穩定化。
更新時間:2025-09-08
nanoarch科研3d打印機m160 ，本套系統創新地使用了自動化的多材料送料系統，兼顧高精度和多材料打印，可支持同時打印4種樹脂基復合材料進行層間或層內多材料3d打印，適用于基礎理論驗證及原理創新研究，非常適合高校和研究機構用于科學研究及應用創新。其主要應用在點陣結構材料、功能梯度材料、超材料、復合材料、復雜微流控，多材料4d打印等方面。
更新時間:2025-09-08
nanoarch微納3d打印機 p130/s130 ，科研3d打印系統，擁有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印層厚，從而實現超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機構用于科學研究及應用創新。
更新時間:2025-09-08
nanoarch 3d打印機p140/s140 ，科研3d打印系統，擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚，從而實現超高精度的樣件制作，非常適合高校和研究機構用于科學研究及應用創新。
更新時間:2025-09-08
理音rion kz-30uk采樣器，易于操作的室內化學采樣器，當腔體壓力過高的時候， 可以排凈空氣，防止發生故障 ，設計簡單的化學防爆采樣器，kz-30uk的設計是可以為 離線測試的液體粒子計數器提供加壓。
更新時間:2025-09-08
美nano-master熱蒸鍍系統：nte-4000 獨立式電子束蒸鍍，nte-3500 緊湊型獨立式熱蒸鍍，nte-3000 雙蒸源臺式熱蒸鍍系統，nte-1000 簡便型熱蒸鍍。熱蒸鍍系統可以跟nano-master那諾-馬斯特的其它任意真空系統組成雙系統。
更新時間:2025-09-08
美nano-master磁控濺射系統：nsc-4000獨立式磁控濺射系統，可支持共濺射等能力的擴展nsc-3500緊湊型獨立式熱蒸鍍，可以支持金屬材料的dc濺射，介質材料的rf濺射，以及脈沖dc濺射等應用。nsc-3000可支持多4個靶的dc濺射或rf濺射nsc-1000單金靶靶材的臺式濺射系統，不但可用于電鏡制備，也可以用于常規的金屬濺射
更新時間:2025-09-08
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